[发明专利]用于去除抗光蚀剂和蚀刻残留物的含有氟化物的酸性组合物有效
| 申请号： | 00800080.8 | 申请日： | 2000-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN1302327A | 公开（公告）日： | 2001-07-04 |
| 发明（设计）人： | 达里尔·W·彼得斯;伊尔·E·沃德 | 申请（专利权）人： | 阿什兰公司 |
| 主分类号： | C11D9/04 | 分类号： | C11D9/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于去除抗光蚀剂和有机和无机残留物的组合物,和除去抗光蚀剂和蚀刻残留物的方法。该组合物是含有氟化物和有机极性溶剂的酸性水基组合物。该组合物不含二元醇并具有低的表面张力和粘度。腐蚀抑制剂可选择性地存在于该组合物中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 抗光蚀剂 蚀刻 残留物 含有 氟化物 酸性 组合 | ||
【主权项】：
1．一种低表面张力、低粘度的水基组合物，其基本上由以下的物质组成：a．酸性的缓冲溶液，b．可以任何比例混溶于水中的极性有机溶剂，c．氟化物，和d．水，其中该水基组合物的pH为约3-6，并且不含二元醇。
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