[发明专利]组织或图案表面在一种样品上的应用无效
申请号: | 00800788.8 | 申请日: | 2000-03-09 |
公开(公告)号: | CN1304353A | 公开(公告)日: | 2001-07-18 |
发明(设计)人: | 李·艾辛格 | 申请(专利权)人: | 李·艾辛格 |
主分类号: | B29C67/00 | 分类号: | B29C67/00;B29C37/00;G03F7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 孙征 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 使用迅速制样技术来节省时间和资金。其中一种生产这种迅速制样的方法是已知的立体平版印刷术。这种方法通过将紫外线激光器的射线投射到聚合物树脂的大缸中、并经过CAD制图形成一个切实的三维物体。本发明涉及将组织或图案施加于一个如上生产的样品部件上。组织图案被施加于样品部件的表面上。所述方法包括将光致抗蚀剂喷射到所述物品的表面上到预定的厚度。部分表面被预先选定来提供组织图案。另一表面部分被覆盖从而防止暴露于辐射源。在被光源暴光后,去除硬化的光致抗蚀剂,留下未暴光的光致抗蚀剂在所述表面上形成预先选择的图案组织。 | ||
搜索关键词: | 组织 图案 表面 一种 样品 应用 | ||
【主权项】:
1.一种在一个样品模型的表面上提供隆起特征的方法,其特征在于下述步骤:(a)提供一个模型,所述模型具有至少一个表面,在所述表面上设置了一种隆起特征;(b)在所述表面上涂覆一定厚度的光致抗蚀剂;(c)提供用于防止所述光致抗蚀剂的一个第一部分被暴露于辐射源的装置,同时允许对光致抗蚀剂的一个第二部分暴露于辐射源,其中,所述光致抗蚀剂的第二部分提供了隆起特征;(d)将所述表面暴露于一个辐射源,以通过化学方法改变所述光致抗蚀剂的第二部分;以及,(e)将所述光致抗蚀剂的第一部分从所述表面移开,同时留下由所述表面上暴露的光致抗蚀剂形成的隆起特征。
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