[发明专利]加工脆性金属薄带的方法及由纳米晶合金带制成的磁性元件无效

专利信息
申请号: 00804014.1 申请日: 2000-01-14
公开(公告)号: CN1341153A 公开(公告)日: 2002-03-20
发明(设计)人: J-P·里亚尔;F·施米特 申请(专利权)人: 安费尤吉纳精密公司
主分类号: C21D7/02 分类号: C21D7/02;H01F41/02;H01F27/245;B32B15/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 段承恩
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种加工方法,它在一条脆性金属薄带(1)的至少一个面上涂覆了含至少一种聚合物的涂膜(3,3’),以便在带材上获得厚度为1微米-100微米的粘性涂层,由此改善了脆性金属薄带(1)的加工性能和破裂性能,随后,在涂有涂膜(3,3’)的脆性金属薄带(1)上进行使脆性金属薄带(1)接受应力的步骤如切割。该方法特别适用于由具有纳米晶结构的带材或带状物制造出磁性元件。
搜索关键词: 加工 脆性 金属 方法 纳米 合金 制成 磁性 元件
【主权项】:
1.一种用于加工至少一条厚度小于0.1mm的脆性金属薄带(1,21a,21b,30)的方法,所述方法包括至少一个使薄带(1,21a,21b,21c,30)承受应力的步骤,其特征在于,在使薄带(1,21a,21b,21c,30)承受应力的步骤之前,至少带材的一面覆有一个由至少一种聚合材料制成的涂层(3,3’,13,13’,31),以便在带材上获得厚1微米-100微米的粘附层,该粘附层改变了金属薄带的变形和破裂性能,并在覆有涂层的带材上进行使带材承受应力的所述步骤。
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