[发明专利]氟化聚合物,光刻胶和用于显微光刻的方法无效
| 申请号： | 00807106.3 | 申请日： | 2000-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1357116A | 公开（公告）日： | 2002-07-03 |
| 发明（设计）人： | A·E·菲林格;J·菲尔德曼;F·L·谢德特三世 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;C08F8/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 庞立志,姜建成 |
| 地址： | 美国特拉华*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述了用于显微光刻术的氟化聚合物、光刻胶和相关方法。这些聚合物和光刻胶包含了同时赋予这些材料以高紫外线(UV)透明性和在碱性介质中的显影能力的氟代醇官能团。本发明的材料尤其在短波长,例如157nm具有高UV透明性,这使得它们在这些短波长下的光刻术中是高度有用的。 | ||
| 搜索关键词： | 氟化 聚合物 光刻 用于 显微 方法 | ||
【主权项】：
1、光刻胶，包含：(a)含氟聚合物，其包含从含有具有以下结构式的氟代醇官能团的至少一种烯属不饱和化合物衍生的重复单元：-C(Rf)(Rf’)OH其中Rf和Rf’是相同或不同的1-10个碳原子的氟代烷基或者二者连在一起是(CF2)n，其中n是2-10；和(b)至少一种光活性组分；其中含氟聚合物在157nm的波长下具有低于4.0μm-1的吸收系数。
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