[发明专利]在电感耦合的等离子体内改善等离子体分布及性能的设备无效
| 申请号： | 00808090.9 | 申请日： | 2000-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN1353859A | 公开（公告）日： | 2002-06-12 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·布里卡 | 申请（专利权）人： | 东京电子有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 蹇炜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种采用等离子体(28)处理衬底(18)的处理系统(12)包括处理室(13),该处理室确定了一处理空间(14)并包括在该空间内支承衬底(18)的衬底支承件(17);将处理气体导入上述处理空间(14)的气体入口(20)。一个自引入处理空间(14)内的处理气体产生一等离子体(28)的等离子体源。该等离子体源包括一个与处理室(13)接界并靠近处理空间(14)的介电窗(24a),以及一个靠近介电窗(24a)并置于处理室(13)外的电感元件(10)。该电感元件(10)可耦合电能穿过介电窗(24a)进入处理空间(14)并在其中产生等离子体(28),该电感元件包括多种可选结构来产生密集均匀的等离子体。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子 体内 改善 等离子体 分布 性能 设备 | ||
【主权项】：
1.一种采用等离子体处理衬底的处理系统，该系统包括：一个处理室，该处理室确定了一个处理空间并且包括在处理空间内支承着衬底的衬底支承件；一个将处理气导入上述处理空间的气体入口；一个在处理空间内的、自处理气体产生等离子体的等离子体源，该等离子体源包括：一个具有一般平表面的介电窗，该介电窗与处理室的接界靠近处理空间；一置于室外并靠近介电窗的电感元件，该电感元件可耦合电能穿过介电窗进入处理空间并在其中产生等离子体；该电感元件包括一具有复合线圈匝沿线圈长度方向连续排列的线圈，至少一个上述线圈匝定位于第一平面，至少一个上述线圈匝定位于与第一平面成一定角度的第二平面上。
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