[发明专利]遮光结构无效
| 申请号： | 00808150.6 | 申请日： | 2000-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN1352752A | 公开（公告）日： | 2002-06-05 |
| 发明（设计）人： | 安齐博;山本浩和;今本善美;菅野隆夫;难波竹巳 | 申请（专利权）人： | NOK株式会社 |
| 主分类号： | G02B7/02 | 分类号： | G02B7/02;F16J15/43 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 马江立,郑中军 |
| 地址： | 日本东*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 遮光装置,它带有用于降低滑动阻力、提高光密性和节省空间的遮光密封(1)。遮光结构设置在多个间隔预定距离安置并能彼此相对运动的元件(13,14)之间,能防止光通过元件(13,14)之间的间隙进入。该遮光结构包括设置在上述多个元件(13,14)中任一个上的磁力产生装置(2,3),和由磁力产生装置(2,3)磁力保持的与另一元件接触的磁性流体(4),其特征是,在元件(3,4)之间形成的间隙由磁性流体(4)遮住。 | ||
| 搜索关键词： | 遮光 结构 | ||
【主权项】：
1.一种遮光结构，它设置在多个以预定距离间隔安置以便彼此相对运动的元件之间，并能防止光从形成在这些元件之间的间隙进入，它包括：设置在所述多个元件中任一个中的磁力产生装置，和由该磁力产生装置磁力保持并接触另一元件的磁性流体；和利用该磁性流体遮挡住在所述多个元件之间形成的间隙。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于NOK株式会社，未经NOK株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/00808150.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：制备低分子量聚合物的水相法
- 下一篇：高密度电子封装及其制造方法
