[发明专利]在基板上生产光催化涂层的方法无效
| 申请号： | 00808643.5 | 申请日： | 2000-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN1354732A | 公开（公告）日： | 2002-06-19 |
| 发明（设计）人： | J·A·M·安莫拉安;R·J·麦克迪;S·J·赫斯特 | 申请（专利权）人： | 皮尔金顿公共有限公司;利比－欧文斯－福特公司 |
| 主分类号： | C03C17/245 | 分类号： | C03C17/245;C03C17/34;C23C16/40 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 英国默*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种生产光催化自清洁镀膜基板,特别是玻璃基板的方法,包括使其与含有钛源和氧源的流体混合物接触在基板表面上沉积氧化钛涂层,基板温度至少为600℃。镀膜表面具有良好的耐久性、高光催化活性和低可见光反射率。最优选的是沉积温度在645－720℃,这提供特别良好的耐久性。流体混合物优选含有氯化钛和一种酯,尤其是乙酸乙酯。还公开了一种自清洁镀膜基板,尤其是玻璃基板,具有高光催化活性和低可见光反射率以及一种耐久性的自清洁镀膜玻璃。 | ||
| 搜索关键词： | 基板上 生产 光催化 涂层 方法 | ||
【主权项】：
1.一种生产光催化活性镀膜基板的方法，包括使基板表面与含有钛源和氧源的流体混合物接触，在基板表面上沉积氧化钛涂层，所述基板的温度至少为600℃，从而使基板的镀膜表面具有大于5×10-3cm-1min-1的光催化活性，在镀膜侧测量的可见光反射率为35％或更低。
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