[发明专利]用于收集和会聚光的系统

摘要

收集和会聚系统包括配对的反射器组,其具有收集从辐射源发射的辐射并将所收集的辐射准直成平行束的第一或者收集反射器,该平行束指向第二或者会聚或者聚焦反射器的一部分,第二反射器沿着该两个反射器公共的光轴将该光聚焦在目标上。在第二反射器上形成有孔以允许从位于第一反射器的焦点处的源传输来的辐射指向第一反射器,在第一反射器上形成有孔以允许由第二反射器反射和聚焦的辐射穿过该孔到达位于第二反射器的焦点处的目标上。一透镜被定位于第一和第二反射器之间,该透镜与该两反射器的光轴为同一公共光轴,其焦点与该两反射器的焦点相同,用于收集和会聚穿过在各个反射器上形成的孔时会损耗的辐射。整个系统基本上具有单位放大率。此外,可以加入回射器以增加目标上的总的光通量密度。可沿着公共光轴级联多个电磁源和相关的配对反射器组以增加目标处的亮度。

主权项

1、一种装置，包括：电磁辐射源；待被由所述源发射的至少一部分电磁辐射照射的目标；收集反射器，其具有一凹反射面和穿过该反射面形成的孔；和聚焦反射器，其具有一凹反射面和穿过该反射面形成的孔，所述收集和聚焦反射器被定位和定向为使得它们各自的凹反射面处于相对的、面对面的关系，所述源被如此定位和定向，使得由该源发射的至少一部分电磁辐射穿过在所述聚焦反射器上形成的孔而到达所述收集反射器的所述凹反射面，所述收集反射器将入射在其上的至少一部分电磁辐射反射到所述聚焦反射器的所述凹反射面，所述聚焦反射器被构造和放置为使得由其凹表面反射的至少一部分电磁辐射被聚焦并穿过形成于所述收集反射器上的孔，所述目标被定位和定向以用于接收由所述聚焦反射器反射的且穿过形成于所述收集反射器上的孔的至少一部分被聚焦的电磁辐射。