[发明专利]聚合方法有效
| 申请号： | 00810826.9 | 申请日： | 2000-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN1364175A | 公开（公告）日： | 2002-08-14 |
| 发明（设计）人： | A·B·赫尔米斯;F·D·A·詹尼斯特;R·E·马丁;F·卡希亚里 | 申请（专利权）人： | 剑桥显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C08G61/10 | 分类号： | C08G61/10;C08G61/02;C09K11/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制备聚合物或低聚物的方法,包括如下步骤(a)通过如下步骤制备包含取代芳族或杂芳族基团的第一单体(i)提供被第一和第二定位基团取代的芳族或杂芳族基团;(ii)在芳族或杂芳族基团上的第一位置进行金属化;(iii)进行亲电取代以在第一位置提供第一取代基团;和(b)在反应混合物中将第一单体与至少另外两种各自与第一单体相同或不同的单体在形成聚合物或低聚物的条件下接触;其中第一和第二定位基团的性质和位置区域选择第一位置。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备聚合物或低聚物的方法，包括如下步骤：(a)通过如下步骤制备包含取代芳族或杂芳族基团的第一单体：(i)提供被第一和第二定位基团取代的芳族或杂芳族基团；(ii)在芳族或杂芳族基团上的第一位置进行金属化；(iii)进行亲电取代以在第一位置提供第一取代基团；和(b)在反应混合物中将第一单体与至少另外两种各自与第一单体相同或不同的单体在形成聚合物或低聚物的条件下接触；其中第一和第二定位基团的性质和位置区域选择第一位置。
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