[发明专利]高亮度发光装置有效
| 申请号： | 01104741.0 | 申请日： | 2001-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1346154A | 公开（公告）日： | 2002-04-24 |
| 发明（设计）人： | 陈泽澎;张智松;江志立 | 申请（专利权）人： | 国联光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种发光装置包括基底、发光层、电流限制层、电流散布层、定义一暴露区域的介电层、顶欧姆接触金属层、以及位于基底以下的底欧姆欧接触金属层。电流散布层具有粗糙的顶表面;电流限制层包括允许电流流通的传导层、以及位于传导层外侧的绝缘层;绝缘层禁止电流于沿着该顶与底欧姆接触金属层之间的路径流动时,流通经过其本身。基底的底部形成一孔洞以避免基底对于光的吸收。藉由粗糙顶表面、基底的部分移除、电流限制层、及顶和底欧姆接触金属层和传导层的最佳配置,可得到高亮度发光装置。 | ||
| 搜索关键词： | 亮度 发光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种发光装置，包括：(1)一基底；(2)位于该基底上的一发光层；(3)位于该发光层上的一电流限制层，该电流限制层包括允许电流流通的一传导层，以及位于该传导层外侧的一绝缘层；(4)位于该电流限制层上的一电流散布层，该电流散布层具有一粗糙的顶表面；(5)位于该电流散布层上的一介电层，定义该电流散布层的一暴露区域；(6)位于该电流散布层的暴露区域上的一顶欧姆接触金属层；以及(7)位于该基底以下的一底欧姆接触金属层；其中，该绝缘层禁止电流在沿着该顶欧姆接触金属层与该底欧姆接触金属层之间的路径流动时流通经过其本身。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国联光电科技股份有限公司，未经国联光电科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/01104741.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
