[发明专利]工作波长193纳米投影光刻物镜无效
| 申请号： | 01108432.4 | 申请日： | 2001-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN1385727A | 公开（公告）日： | 2002-12-18 |
| 发明（设计）人： | 陈旭南;林妩媚;余国彬;罗先刚;杜春雷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B13/22 | 分类号： | G02B13/22 |
| 代理公司： | 成都信博专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张一红,王庆理 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开的工作波长193纳米投影光刻物镜,是一种大规模集成电路制造设备投影光刻装置的高分辨力投影成像物镜。由外层密封恒温外套、中间层镜筒和内层光学透镜元件、分隔固定光学透镜元件的透镜框组件构成。本发明克服了现有投影光刻物镜光刻分辨力低,不能制作高分辨力图形的不足,具有光刻分辨力高、光学系统缩小倍率大、结构简单、成本低、大幅降低制作超微细掩模难度的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 工作 波长 193 纳米 投影 光刻 物镜 | ||
【主权项】：
1、一种工作波长193纳米投影光刻物镜，包括外层的恒温密封外套(8)、中间层和内层，其特征在于：中间层由第一镜筒(6)和第二镜筒(10)用连接件连接而成，内层为十个光学透镜元件，以及分隔固定光学透镜元件的十个透镜框组件和光栏组件：从掩模(17)一侧起，依次是第一透镜(29)及第一透镜框组件(2)、第二透镜(30)及第二透镜框组件(3)、第三透镜(31)及第三透镜框组件(4)、第四透镜(32)及第四透镜框组件(5)、光栏组件(7)、第五透镜(33)及第五透镜框组件(9)、第六透镜(34)及第六透镜框组件(11)、第七透镜(35)及第七透镜框组件(12)、第八透镜(36)及第八透镜框组件(13)、第九透镜(37)及第九透镜框组件(14)、第十透镜(38)及第十透镜框组件(15)。
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