[发明专利]高纯度的黄金箔的制法无效

专利信息
申请号: 01109586.5 申请日: 2001-04-20
公开(公告)号: CN1381608A 公开(公告)日: 2002-11-27
发明(设计)人: 唐上文 申请(专利权)人: 京华堂实业股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/14;B22F9/14
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 刘朝华
地址: 台湾省*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种高纯度的黄金箔的制法,在真空装置中,将一金块通过电气加工方法气化形成黄金粉尘型态,上方装设具有静电结构的基材,通过施加于基材上的静电使上飘的黄金粉尘假性附着于基材,黄金箔的各粒子间的假性架构通过震动、混于水中摇动或其它方式破壤后,回复成极易被人体吸收的单一粉尘型态或多粉尘聚集型态。使所制出的黄金箔由于绝无任何污染源,达到极薄的程度,及至少99.9%的纯度,为极利于人体吸收的极细微的黄金粉尘型态。
搜索关键词: 纯度 金箔 制法
【主权项】:
1、一种高纯度的黄金箔的制法,其特征在于:在真空装置中,将黄金块通过电气加工方法气化形成粉尘型态,上方装设具有静电结构的基材,通过施加于基材上的静电方法,将上飘的黄金粉尘假性附着于该基材上,该黄金粉尘聚集后,其各粒子间以假性架构成为高纯度的黄金箔。
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