[发明专利]半导体材料的高灵敏度分析技术的样品基质去除装置无效

专利信息
申请号: 01110216.0 申请日: 2001-04-02
公开(公告)号: CN1155442C 公开(公告)日: 2004-06-30
发明(设计)人: 廖宜宽;罗卿文 申请(专利权)人: 华邦电子股份有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00;G01N1/28
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 王学强
地址: 台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种半导体材料的高灵敏度分析技术的样品基质去除装置,以提高方便的操作,该样品基质去除装置包括:由耐热材质所构成的架子,在架子上有凹洞。这些凹洞两两间存在一特定的距离。由一耐热材质所构成的杯子,杯子的高度高于这些凹洞的深度且杯子适于置入凹洞中。
搜索关键词: 半导体材料 灵敏度 分析 技术 样品 基质 去除 装置
【主权项】:
1、一种半导体材料的高灵敏度分析技术的样品基质去除装置,包括:一石英板,石英板上存在至少一凹洞,凹洞的容积介于0.5毫升至5毫升之间;以及且两两该凹洞之间存在有一特定的距离;以及至少一杯子,杯子的材质为耐热材质,该杯子的高度高于凹洞的深度且杯子适合置入凹洞中。
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