[发明专利]形成淀积膜的设备和方法无效
申请号: | 01111389.8 | 申请日: | 2001-01-31 |
公开(公告)号: | CN1316547A | 公开(公告)日: | 2001-10-10 |
发明(设计)人: | 宍户健志;金井正博;幸田勇藏;矢岛孝博 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 双层结构的电功率供给电极306包括用单个平板构成的没分隔开的电极102和设在没分隔开的电极102上的6个分隔开的电极101,与设在真空室302中的放电室305的上边上的没分隔开的电极电接触,使电功率供给电极平行面对条形衬底301。按形成平面的方式设置分隔开的电极101,面对条形衬底301的分隔开的电极101的表面与条形衬底301之间的距离均匀。面对条形衬底301的分隔开的电极101的表面总面积与其上安装分隔开的电极101的没分隔开的电极102的面积相同。于是提高了形成淀积膜的设备中产生的等离子体的均匀性,降低了形成淀积膜所需的成本。 | ||
搜索关键词: | 形成 淀积膜 设备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种形成淀积膜的设备,包括真空室,真空室内含有一对电极,电极包括要加电功率的电功率供给电极和其上要形成淀积膜的衬底。通过在衬底与电功率供给电极之间产生等离子体,并使引入真空室的作为形成淀积膜的原材料气体分解,在衬底上形成淀积膜,其中,电功率供给电极用单个平面电极和电连接到平面电极的多个分隔开的电极构成,每个分隔开的电极的面积小于平面电极的平面面积,和其中,多个分隔开的电极设在平面电极面对衬底的一侧上,以形成至少一个其形状与平面电极的平面形状几乎相同的基本上是平面的电极层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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