[发明专利]等离子体显示器阻隔壁的制造方法无效

专利信息
申请号: 01112394.X 申请日: 2001-04-06
公开(公告)号: CN1379428A 公开(公告)日: 2002-11-13
发明(设计)人: 许国彬 申请(专利权)人: 达碁科技股份有限公司
主分类号: H01J9/00 分类号: H01J9/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李瑞海
地址: 台湾省新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种等离子体显示器阻隔壁的制造方法,首先于玻璃基板上形成多个定址电极,并在其上面形成一层介电层,接着于介电层上形成大致对应于定址电极的多个喷砂终止层。然后,于介电层与喷砂终止层上涂布一层阻隔材料层,并于阻隔材料层上形成一砂阻层后,进行一喷砂工艺,以去除未被砂阻层覆盖的阻隔材料层,直至暴露出喷砂终止层,以形成多个阻隔壁。之后,去除砂阻层和喷砂终止层,再进行一烧结工艺,以同时强化介电层和阻隔壁的结构。
搜索关键词: 等离子体 显示器 阻隔 制造 方法
【主权项】:
1.一种等离子体显示器的阻隔壁的制造方法,包括:提供一玻璃基板;于所述玻璃基板上形成多个定址电极;于所述定址电极和所述玻璃基板上覆盖一介电层;于所述介电层上形成一喷砂终止层材料,并定义形成多个喷砂终止层,这些喷砂终止层大致对应于这些定址电极,且每一喷砂终止层的宽度不小于每一定址电极的宽度;于所述介电层上覆盖一阻隔材料层;于所述阻隔材料层上形成一砂阻层材料并定义形成多个砂阻层;进行一喷砂工艺,去除未被这些砂阻层覆盖的阻隔材料层,直至暴露出所述喷砂终止层,以形成多个阻隔壁;去除所述砂阻层和所述喷砂终止层;以及进行一烧结程序。
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