[发明专利]记录介质以及用于制造该介质的设备和方法有效
| 申请号： | 01115793.3 | 申请日： | 2001-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN1337689A | 公开（公告）日： | 2002-02-27 |
| 发明（设计）人： | 加藤正浩;村松英治;山口淳;谷口昭史 | 申请（专利权）人： | 先锋株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 韩宏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种记录介质,包括并排地设置且周期性地弯曲的凹槽轨道和着陆轨道对;预先形成在所述着陆轨道上且携带有关该凹槽轨道信息的多个着陆-预先凹坑;以及形成在至少该凹槽轨道和着陆轨道上的记录层。着陆-预先凹坑的平均曲率半径小于没有着陆-预先凹坑的区域内的所述凹槽轨道的边的平均曲率半径,并由从所述凹槽轨道的边连续延伸的弯曲表面定义。面对所述着陆-预先凹坑的连续弯曲表面的所述凹槽轨道的这些边是限制凹槽轨道的弯曲表面。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 以及 用于 制造 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种记录介质，包括：并排地设置且周期性地弯曲的凹槽轨道和着陆轨道对；预先形成在所述着陆轨道上且携带有关该凹槽轨道信息的多个着陆-预先凹坑；以及形成在至少该凹槽轨道和着陆轨道上的记录层，所述着陆-预先凹坑的平均曲率半径小于没有着陆-预先凹坑的区域内的所述凹槽轨道的边的平均曲率半径，并由从所述凹槽轨道的边连续延伸的弯曲表面定义，面对所述着陆-预先凹坑的连续弯曲表面的所述凹槽轨道的这些边是限制凹槽轨道的弯曲表面。
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