[发明专利]清洗方法、半导体器件的制造方法及有源矩阵型显示器件的制造方法无效
| 申请号： | 01117261.4 | 申请日： | 2001-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN1343535A | 公开（公告）日： | 2002-04-10 |
| 发明（设计）人： | 速水直哉 | 申请（专利权）人： | 东芝株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 黄依文 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种将加有超声波的清洗液供给被清洗物,来清洗所述被清洗物的超声波清洗方法,对所述清洗液施加所述超声波,以规定间隔反复进行施加、停止的方式进行。用该超声波清洗方法进行清洗时,可以既不降低去除附着在被清洗物表面的微粒的效率,又不损伤被清洗物。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 半导体器件 制造 有源 矩阵 显示 器件 | ||
【主权项】：
1.一种将加有超声波的清洗液供给被清洗物来清洗所述被清洗物的超声波清洗方法，其特征在于，对所述清洗液施加所述超声波，是以反复进行施加、停止的方式进行。
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