[发明专利]物理化学的电子束抛光方法无效
申请号: | 01118250.4 | 申请日: | 2001-05-25 |
公开(公告)号: | CN1388274A | 公开(公告)日: | 2003-01-01 |
发明(设计)人: | 徐正群;周钟霖 | 申请(专利权)人: | 环宇真空科技股份有限公司 |
主分类号: | C25F3/16 | 分类号: | C25F3/16;B23H1/00 |
代理公司: | 北京银龙专利代理有限公司 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明是关于一物理化学的电子束抛光方法,经由控制电解液浓度、温度及电压装置造成电极尖端放电,使待抛物导电,此时电解溶液槽变成一电容槽。再将待抛物置入其中,此时是待抛物与槽液之间产生气封,透过气封的作用可使待抛物和电解液之间形成如等离子体(PLASMA)般的空间,并透过电极产生交接的作用在被抛物的表面击平,使待抛物产生如镜面的平面,达成表面抛光的目的。 | ||
搜索关键词: | 物理化学 电子束 抛光 方法 | ||
【主权项】:
1.一种物理化学的电子束抛光方法,其包含:一电解液槽,用以容置电解液及抛光元件;一温度控制装置;一电压控制装置,其中包含一电极装置,一气封产生装置,为与上述电极装置连接的导电线;其制造过程包含如下步骤:(A)根据不同的待抛物调配不同浓度的电解液,电解液浓度为1-10%,以使电解溶液的浓度不致太稀影响其效率,以避免过浓伤害待抛物的品质,使金属易产生蚀刻而削减机制表面的亮度光泽,(B)调整温度至70-90℃,以避免温度太低损及气封的稳定性且使过程有大幅的电流及电压波动;过高时因升高电解质作用使机制品质受损、并影响气封及电解液之间的热平衡,(C)调整电压至240-380V,过高电压易造成制品及电解液间隙的崩溃造成冲蚀,若电压太低则制品四周气封的稳定性受损。
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