[发明专利]真空室用擦拭材料及其制备方法无效
| 申请号： | 01118894.4 | 申请日： | 2001-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN1330091A | 公开（公告）日： | 2002-01-09 |
| 发明（设计）人： | 佐藤幸男 | 申请（专利权）人： | 井上株式会社;井上技术研究所株式会社 |
| 主分类号： | C08G18/00 | 分类号： | C08G18/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉,丁业平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明通过简单控制孔直径和使用聚氨酯发泡材料制成具有充分的沉积物擦拭性能和保水率的真空室用擦拭材料及其制备方法,其中的聚氨酯发泡材料的发泡中不使用硅氧烷基表面活性剂。本发明还描述了由聚氨酯发泡材料制成的擦拭材料,该擦拭材料用于硅片制造过程中使用的真空室中,其中的聚氨酯发泡材料不含硅氧烷基并具有其孔直径控制为500－3,000μm的开孔结构。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 擦拭 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种由聚氨酯发泡材料制成的擦拭材料，该擦拭材料用于硅片制造过程中使用的真空室中，其中所述聚氨酯发泡材料不含硅氧烷基并具有其孔直径控制在500-3,000μm的开孔结构。
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