[发明专利]带有光产酸剂的含光自由基产生剂的光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 01118895.2 | 申请日： | 2001-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN1330288A | 公开（公告）日： | 2002-01-09 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;李根守;郑旼镐;白基镐 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉,丁业平 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种含有光自由基发生剂的光致抗蚀剂组合物,更具体涉及一种包括(a)光致抗蚀剂树脂,(b)光产酸剂,(c)有机溶剂和(d)光自由基发生剂的光致抗蚀剂组合物。该光致抗蚀剂组合物能降低或阻止由于光致抗蚀剂上部组合物产生的酸浓度相对于光致抗蚀剂下部组合物产生的酸浓度高所造成的倾斜图像的生成。 | ||
| 搜索关键词： | 有光 产酸剂 自由基 产生 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物包括：(a)光致抗蚀剂树脂，(b)光产酸剂，(c)光自由基发生剂和(d)有机溶剂。
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