[发明专利]于非导电材料形成电磁波干扰遮蔽膜的方法无效
| 申请号： | 01119980.6 | 申请日： | 2001-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN1395465A | 公开（公告）日： | 2003-02-05 |
| 发明（设计）人： | 刘启志;陈在樸;黄光昭 | 申请（专利权）人： | 柏腾科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;C23C14/14;C23C14/02 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 高存秀 |
| 地址： | 台湾省台北县莺*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及在非导电材料的表面上形成一用于遮蔽电磁波干扰的一或多层金属膜的方法，包括对该表面进行粗化处理，接着于粗化处理过的表面物理蒸汽沉积(例如溅镀)一或多层金属膜，而形成电磁波干扰遮蔽膜。本发明方法因为采取该表面粗化处理，使得作为EMI遮蔽膜的金属膜可由物理蒸汽沉积方式在非导电材料的表面上附着的非常好，附着力可达到5B的层级，符合甚至超过市场上对EMI遮蔽膜的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 材料 形成 电磁波 干扰 遮蔽 方法 | ||
【主权项】：
1.一种于非导电材料形成电磁波干扰遮蔽膜的方法，包含下列步骤：a)粗化一非导电材料欲被形成EMI遮蔽膜的一表面；及b)于该粗化过的表面上物理蒸气沉积一或多层金属膜。
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