[发明专利]核径迹微孔荧光综合防伪标识的制造方法及其制品无效
| 申请号： | 01120136.3 | 申请日： | 2001-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN1332369A | 公开（公告）日： | 2002-01-23 |
| 发明（设计）人： | 王军民;赵长明 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G09F3/02 |
| 代理公司： | 北京清亦华专利事务所 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于防伪技术领域制造方法,包括以下步骤用具有一定能量和质量的重离子对透明的高分子聚合物薄膜进行辐照;在辐照过的薄膜上,制作激光彩虹模压全息图像;在照射过的薄膜上,印刷核微孔防伪标识图案和文字;在激光彩虹全息图像的上面复合或涂布一层荧光保护层;用化学蚀刻剂对经过上述薄膜进行成孔蚀刻,清洗和干燥处理。本发明集多重防伪性、美观性、实用性于一体,以满足商品市场对防伪技术越来越高的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 径迹 微孔 荧光 综合 防伪 标识 制造 方法 及其 制品 | ||
【主权项】：
1、一种荧光核微孔综合防伪标识制造方法，包括以下步骤：1)、用具有一定能量和质量的重离子对透明的高分子聚合物薄膜进行辐照；2)、在所说的辐照过的透明高分子聚合物薄膜上，制作激光彩虹模压全息图像；3)、在照射过的透明高分子聚合物薄膜上，涂布一层加有一种或几种荧光物质的耐碱或酸保护层，形成防伪标识图案和文字；4)用化学蚀刻剂对经过上述步骤处理过的透明高分子聚合物薄膜进行成孔蚀刻，化学蚀刻后对薄膜进行清洗和干燥处理，再与纸制印刷品，防伪全息纸，电镀铝膜或激光彩虹模压全息防伪标识等复合在一起，得到综合防伪标识。以上步骤，1、2可任意先后进行。
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