[发明专利]光刻装置和曝光方法无效
| 申请号： | 01121643.3 | 申请日： | 1997-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1329287A | 公开（公告）日： | 2002-01-02 |
| 发明（设计）人： | 西健尔;太田和哉 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间,可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时,用于相对曝光图形的对位,所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1、光刻装置，包括：平行于X方向且平行于Y方向伸展的基面；第1和第2物体支架，二者都可以在所述基面上方移动，并且可以平行于X方向且平行于Y方向从第1位置移动到第3位置，所述第1位置包括在曝光区中；以及移位系统，用于使第1物体支架和第2物体支架在基面上方移动，其中，移位系统包括能够与第1物体支架和第2物体支架交替耦合的第1移位单元和第2移位单元，第1移位单元适用于在第3位置和第1位置与第3位置间的第2位置之间移动物体支架，且适用于将物体支架从第2位置移动到第3位置，第2移位单元适用于在第2位置和第1位置之间移动物体支架，且适用于将物体支架从第1位置移动到第2位置。
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