[发明专利]用于金属和金属氧化物的结构化处理的抛光液和方法无效
申请号: | 01122164.X | 申请日: | 2001-05-16 |
公开(公告)号: | CN1324906A | 公开(公告)日: | 2001-12-05 |
发明(设计)人: | G·贝特尔;B·西巴赫;A·森格尔 | 申请(专利权)人: | 因芬尼昂技术股份公司;西门子公司 |
主分类号: | C09G1/00 | 分类号: | C09G1/00;C09K3/14;B24C1/08;H01L21/321 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张志醒 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种抛光液,特别用于化学-机械抛光工艺步骤,其中含有多晶金刚石粉和至少一种从氧化剂、络合剂、表面活性剂基团和有机基团中选择出的添加剂。采用本发明所述抛光液可提高对金属氧化物和金属的磨蚀率,尤其是元素周期表的8b组元素。另外,本发明还描述了一种对金属氧化物和金属进行平面化和/或结构化处理的方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 金属 氧化物 结构 处理 抛光 方法 | ||
【主权项】:
1、抛光液,特别用于通过化学-机械抛光对金属氧化物和金属,尤其是元素周期表内8b组元素进行磨蚀和/或结构化处理,其中含有a)水或一种水/醇混合物,b)多晶金刚石粉,和c)至少一种从氧化剂、络合剂、表面活性剂基团和有机基团中选择出的添加剂。
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