[发明专利]非光致成像陶瓷带形成图案的方法无效
| 申请号： | 01122854.7 | 申请日： | 2001-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN1334491A | 公开（公告）日： | 2002-02-06 |
| 发明（设计）人： | J·H·蔡 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华,邰红 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及使陶瓷带形成图案的方法,其中将一种光致抗蚀剂层应用于陶瓷带,使得光致抗蚀剂层在图案式曝光和显影后能够为带子起到显影屏蔽的作用。然后该带子经历显影阶段,最终除去带子不需要的部分。该带子含有带酸性或碱性官能侧基的聚合物粘合剂,但不含对光敏感的组分。因此,这种带子可有水加工,但它本身不是光致成像的。然而,当这种带子和显影化学与该带子相反的常规光致抗蚀剂层一起使用时,让光致抗蚀剂层被用作带子的显影屏蔽层。 | ||
| 搜索关键词： | 非光致 成像 陶瓷 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种使非光致成像陶瓷带形成图案的方法，它包括的步骤有：(a)将至少一层光致抗蚀剂层应用于非光致成像陶瓷带，该陶瓷带包含至少一种含有酸性官能侧基的聚合物粘合剂，该光致抗蚀剂层包含光敏层和至少一种含有碱性官能侧基的聚合物粘合剂；(b)使光致抗蚀剂层曝光，其中光致抗蚀剂层的曝光部分变硬；(c)用含有酸性显影溶液的第一显影剂除去光致抗蚀剂层没有变硬的部分，暴露出陶瓷带部分；及(d)用含有碱性显影溶液的第二显影剂除去陶瓷带暴露的部分。
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