[发明专利]有机抗反射涂层聚合物、含该聚合物的抗反射涂层组合物及其制备方法无效
| 申请号： | 01123295.1 | 申请日： | 2001-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1331254A | 公开（公告）日： | 2002-01-16 |
| 发明（设计）人： | 洪圣恩;郑旼镐;郑载昌;李根守;白基镐 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | C08F20/10 | 分类号： | C08F20/10;C09D133/08 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 黄益芬 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有右式1的有机抗反射聚合物,其制备方法、包括所述有机抗反射聚合物的抗反射涂层组合物和由其制备的抗反射涂层的制备方法。包括本发明所述聚合物的抗反射涂层消除了由于晶片底部膜层的光学性质以及由于光刻胶厚度变化而产生的驻波,避免了回射以及来自该底部膜层衍射和反射光所产生的CD变化。这种优点使其适于64M,256M,1G和4GDRAM半导体器件的稳定的超细图案的形成且改进了产率。另一优点是k值随意控制。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 反射 涂层 聚合物 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.具有下述式1结构的化合物：式1其中Ra-Rc各自是氢或甲基；Ra-Rd和R1-R9各自是-H，-OH，-OCOCH3，-COOH，-CH2OH或具有1-5个碳原子的取代或未取代的、或直链或支化的烷基或烷氧烷基；l，m和n各自表示选自1，2，3，4和5的整数；x，y和z各自表示0.01-0.99的摩尔分数；
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