[发明专利]高分子树脂膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 01123602.7 申请日: 2001-07-25
公开(公告)号: CN1334183A 公开(公告)日: 2002-02-06
发明(设计)人: 片井幸祐;辻本忠宏;中村敏和 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B29C41/12 分类号: B29C41/12;//B29L1100
代理公司: 北京市专利事务所 代理人: 关畅
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了高分子树脂膜及其制造方法,是在利用溶液制膜法制造的光学用透明膜、照片感光材料用支持体膜等中,即使在膜表面涂布各种功能层,也不会产生涂布不均现象。这种高分子树脂膜是采用溶液制膜法制造的,其特征在于膜片纵向周期厚度不均间距a[cm]、厚度不均率d[%]满足下式(1)d≤0.46a3-0.91a2+0.60a+1.01(1)(但0.2
搜索关键词: 高分子 树脂 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种高分子树脂膜,是采用溶液制膜法制造的,其特征在于膜片纵向周期厚度不均间距a[cm]、厚度不均率d[%]满足下式(1),但0.2<a<3:d≤0.46a3-0.91a2+0.60a+1.01(1)
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