[发明专利]高分子树脂膜及其制造方法有效
申请号: | 01123602.7 | 申请日: | 2001-07-25 |
公开(公告)号: | CN1334183A | 公开(公告)日: | 2002-02-06 |
发明(设计)人: | 片井幸祐;辻本忠宏;中村敏和 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B29C41/12 | 分类号: | B29C41/12;//B29L1100 |
代理公司: | 北京市专利事务所 | 代理人: | 关畅 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了高分子树脂膜及其制造方法,是在利用溶液制膜法制造的光学用透明膜、照片感光材料用支持体膜等中,即使在膜表面涂布各种功能层,也不会产生涂布不均现象。这种高分子树脂膜是采用溶液制膜法制造的,其特征在于膜片纵向周期厚度不均间距a[cm]、厚度不均率d[%]满足下式(1)d≤0.46a3-0.91a2+0.60a+1.01(1)(但0.2 | ||
搜索关键词: | 高分子 树脂 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种高分子树脂膜,是采用溶液制膜法制造的,其特征在于膜片纵向周期厚度不均间距a[cm]、厚度不均率d[%]满足下式(1),但0.2<a<3:d≤0.46a3-0.91a2+0.60a+1.01(1)
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