[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 01124800.9 申请日: 2001-08-09
公开(公告)号: CN1337745A 公开(公告)日: 2002-02-27
发明(设计)人: 椎木美香;须藤稔 申请(专利权)人: 精工电子有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L21/82;H01C7/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 陈霁,梁永
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的是提供一种小型化的集成的半导体器件,它具有构成梯形电路之类的电阻器。绝缘膜被形成在制作有半导体元件的半导体衬底上,用CMP之类来执行顶部表面的整平。然后,不仅经由整平的绝缘膜在场区上,而且在制作半导体元件的有源区上,制作电阻器。而且,绝缘膜还被形成在电阻器上,并穿过接触孔在电阻器中制作电极。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
权利要求书1.一种半导体器件,它包含:制作在半导体衬底上的半导体元件;制作在半导体元件上的具有平坦的顶部表面的绝缘膜;以及制作在绝缘膜上的电阻器。
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