[发明专利]新的类黄酮及其在化妆和皮肤病学制剂中的应用无效
申请号: | 01125442.4 | 申请日: | 2001-07-04 |
公开(公告)号: | CN1335309A | 公开(公告)日: | 2002-02-13 |
发明(设计)人: | S·哈雷姆扎;F·普雷希特尔;T·哈贝克 | 申请(专利权)人: | BASF公司 |
主分类号: | C07D311/22 | 分类号: | C07D311/22;C07D405/06;C07D407/06;A61K7/42;A61K7/48;A61K31/352;A61P17/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周慧敏 |
地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 式I的类黄酮,式中R是式Ia或Ib的基团之一,其中R1是氢或C1-C4-烷基、羟基、C1-C4-烷氧基、苯氧基或苄氧基,R2是氢或C1-C4-烷基,R3是氢、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或氰基,R4是氢或C1-C4-烷基或苯基,N是0或1,和Het是吡啶基、呋喃基或甲基吡咯基,条件是当基团R=Ia和n=0时,R1-R3中至多2个基团同时是氢原子,以及它们在化妆或皮肤病学制剂中的应用。 | ||
搜索关键词: | 类黄酮 及其 化妆 皮肤病 制剂 中的 应用 | ||
【主权项】:
1、式I的类黄酮式中R是式Ia或Ib的基团之一其中R1是氢或C1-C4-烷基、羟基、C1-C4-烷氧基、苯氧基或苄氧基,R2是氢或C1-C4-烷基,R3是氢、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或氰基,R4是氢或C1-C4-烷基或苯基,n是0或1,和Het是吡啶基、呋喃基或甲基吡咯基,条件是当基团R=Ia和n=0时,R1-R3中至多2个基团同时是氢原子。
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