[发明专利]一种制备高比表面积氧化硅的方法无效

专利信息
申请号: 01126876.X 申请日: 2001-09-26
公开(公告)号: CN1348920A 公开(公告)日: 2002-05-15
发明(设计)人: 赵东元;罗骞;屠波;周亚明;李莉;杨柏 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: C01B33/12 分类号: C01B33/12;C01B39/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 代理人: 陆飞
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属分子筛无机材料领域,本发明涉及一种制备高有序度大孔一介孔双孔、高比表面积氧化硅材料的方法,即以表面活性剂为结构导向剂,与无机硅材料共组装成介观有序结构,并在新的大孔模板剂聚苯乙烯球的引导下通过溶胶-凝胶过程成型,高温下同时脱去分别作为介孔、大孔模板的表面活性剂和聚苯乙烯球,进而得到一种高有序度大孔一介孔多级氧化硅材料。制得的多级孔材料在吸附、分离、传感器、光学材料等方面具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 制备 表面积 氧化 方法
【主权项】:
1、一种制备高比表面积氧化硅材料的方法,其特征在于以表面活性剂为结构导向剂,与无机硅材料共组装成介观有序结构,并在新的大孔模板剂聚苯乙烯球的引导下通过溶胶一凝胶过程成型,高温下同时脱去分别作为介孔、大孔模板的表面活性剂和聚苯乙烯球,进而得到一种高有序度大孔-介孔多级氧化硅材料,具体步骤如下:(1)乙醇溶剂中,在适量盐酸的作用下,将正硅酸乙酯水解,并在表面活性剂的结构导向作用下自组装,各组份的质量比为乙醇∶表面活性剂∶正硅酸乙酯∶0.02M的盐酸∶水=:15∶(0.7-1.2)∶(1.80-2.28)∶(0.4-0.6)∶(0.4-0.6);(2)在室温下将分散有聚苯乙烯小球的溶液滴加在平整的基片上,聚苯乙烯小球直径为50-400nm,其溶液的重量浓度为5-30%;(3)在抽真空的条件下让分散有聚苯乙烯小球的溶液挥发,至干;(4)在轻微抽滤的条件下,将步骤(1)中制得的溶液滴加在聚苯乙烯球堆积的块体上,室温下待溶剂逐渐挥发,此时二氧化硅、表面活性剂在聚苯乙烯球的堆积间隙中形成有序的有机--无机介观结构,重复2-5次,直至聚苯乙烯球的间隙几乎被填满;(5)将步骤(4)中成型的材料在500-600℃焙烧,脱去作为模板的聚苯乙烯球和表面活性剂,得到大孔--介孔多级孔材料。
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