[发明专利]光学近接修正的方法无效
| 申请号： | 01129289.X | 申请日： | 2001-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN1392453A | 公开（公告）日： | 2003-01-22 |
| 发明（设计）人： | 林顺利 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/22;G03F1/08 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学近接修正的方法，适用于高数值孔径的微影工艺，其中曝光光源含有偏振方向互相垂直的P偏振光与S偏振光，且P偏振光的穿透系数大于S偏振光。此方法针对图形指向不同的各个图案，分别使用不同的光学近接修正模式进行修正，其中在修正任一图案时，考虑P偏振光与S偏振光的穿透系数的比值，以及此图案的图形指向与P偏振光/S偏振光的偏振方向的夹角。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 修正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种适用于微影工艺的光学近接修正的方法，该微影工艺使用一具有P偏振光与S偏振光的曝光光源，其特征为：还使用具有复数个图案的一光罩，其中该P偏振光的穿透系数(TransmissionCoefficient)大于该S偏振光，且任选两个图案的图形指向互异，该方法包括：考虑该P偏振光的穿透系数与该S偏振光的穿透系数的比值，以及每一该些图案的图形指向与该S偏振光/该P偏振光的偏振方向的夹角，分别使用不同的一光学近接修正模式修正每一该些图案。
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