[发明专利]化学机械研磨工艺中氧化剂浓度的监控系统有效
| 申请号： | 01129651.8 | 申请日： | 2001-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN1393688A | 公开（公告）日： | 2003-01-29 |
| 发明（设计）人： | 郑吉峰 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/17 | 分类号： | G01N21/17;G01N21/33;G01N21/65 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种化学机械研磨工艺中氧化剂浓度的监控系统，包含一光谱仪与一中控器，其中光谱仪连接在研浆供应槽与研磨机台之间用来供应研浆的管路上，此光谱仪用来检测研浆中氧化剂的浓度；中控器与光谱仪、研浆供应槽与研磨机台连接，此中控器会根据光谱仪传来的信号以得到研浆中氧化剂的浓度，并据以调整研浆供应槽中研浆的组成与/或研磨机台的研磨条件。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 工艺 氧化剂 浓度 监控 系统 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨工艺中氧化剂浓度的监控系统，该化学机械研磨工艺是利用一研浆供应槽、一管路与一研磨机台，其中该研浆供应槽是经过该管路供应一研浆至该研磨机台，且该研浆的组成中含有一氧化剂，其特征在于：该监控系统包括：一光谱仪，连接在该管路上，利用一光学方式来检测该研浆中该氧化剂的浓度；一中控器，与该光谱仪、该研浆供应槽，以及该研磨机台连接，该中控器根据该光谱仪传来的一信号以得到该氧化剂的该浓度，并据以调整该研浆供应槽中该研浆的组成与该研磨机台的一研磨条件。
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