[发明专利]用于EUV的多层反射镜、其波前光行差校正法及包含它的EUV光学系统无效
| 申请号： | 01135499.2 | 申请日： | 2001-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN1350185A | 公开（公告）日： | 2002-05-22 |
| 发明（设计）人： | 白石雅之;村上胜彦;近藤洋行;神高典明 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 武玉琴,朱登河 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于“远紫外线”(“软X射线”或”EUV”)光学系统的多层镜。每个多层镜包括多个交替叠放的第一种材料和第二种材料的层。第一种材料的折射率近似于真空,第二种材料的折射率完全不同于第一种材料的,以提供反射镜对EUV辐射的反射。从表面反射的EUV光的波前轮廓通过去除(”加工”)这个叠层的选定区域的至少一个表面层而得到校正。加工区域具有平滑的梯度边缘,而不是不连贯的边缘。该叠层可包括第一和第二层组,这使得加工的单元可以非常小,这样增加了精度,从而可进行波前光行差的校正。还公开了用于测定反射镜的反射波前轮廓的各种波长技术。镜表面可包括具有高透明性耐蚀材料构成的覆盖层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 euv 多层 反射 光行差 校正 包含 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种制造多层镜的方法，其中在反射镜的衬底表面形成有许多交替叠放的第一和第二材料层，并且第一和第二材料对于EUV辐射具有各自不同的折射率，用于降低从多层镜表面反射的EUV辐射的波前光行差的方法包括：在该多层镜所用EUV波长下，测定透射过EUV光学系统的波前的轮廓，以获得表明目标区域的表面的图，该目标区域用于表面去除需要降低从表面反射的EUV光的波前光行差的多层膜的一或多层；并且根据该图，去除指定区域中的一或多层表面层。
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