[发明专利]用于制造显示面板的掩模有效
| 申请号： | 01138161.2 | 申请日： | 2001-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1362642A | 公开（公告）日： | 2002-08-07 |
| 发明（设计）人： | 金昌男;申东旭;金宗民 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G02F1/15 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 魏晓刚,李晓舒 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于制造大尺寸显示面板的掩模,其中制造了具有多个孔的主框架,子掩模根据要制造的尺寸和图案形式而装配在主框架的孔内,由此避免了下垂和遮蔽,并适用于制造大尺寸或大批量的面板。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 显示 面板 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造显示面板的掩模，包括：多个子掩模，每一个具有至少一个图案；以及其中形成有多个孔的主框架，用于支撑子掩模，其中每个子掩模放置在这些孔中的一个相应孔中，可以在上下和左右方向移动。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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