[发明专利]布线基底和其制造方法以及其中使用的化学镀铜溶液无效
申请号: | 01138516.2 | 申请日: | 2001-09-26 |
公开(公告)号: | CN1357647A | 公开(公告)日: | 2002-07-10 |
发明(设计)人: | 板桥武之;赤星晴夫;高井英次;西村尚树;饭田正;上田佳功 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40;H05K1/11;H05K3/40;H05K3/42;H01R12/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢新华,谭明胜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 通过以下步骤提供一种具有高连接可靠性的多层布线基底,即在层叠在基底上的电介层中形成多于一个的开孔如通路孔,然后在包括该开孔的电介层表面部分进行均匀镀铜,从而形成布线层。使用混合有苯乙醇腈和三乙基四胺中至少一种的化学镀铜溶液进行化学镀铜。进行该化学镀铜的可替换的方法是,使用含选定添加剂或“掺和剂”的化学镀铜溶液,即含有苯乙醇腈和三乙基四胺加上羊毛铬黑T中的至少一种,并含有2,2’-联吡啶、1,10-菲咯啉和2,9-二甲基-1,10-菲咯啉中的至少一种。 | ||
搜索关键词: | 布线 基底 制造 方法 以及 其中 使用 化学 镀铜 溶液 | ||
【主权项】:
1.一种布线基底,其特征在于,在电介体的表面上形成了具有直径范围从50至150μm,且具有封闭底部深度大于其直径的多于一个的开孔,在该开孔的侧壁和底部表面加上所述电介体的表面上形成连续的铜层,并且在开孔侧壁和底部表面上所述铜层的厚度比所述电介体表面上的所述铜层的厚度大0.9倍。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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