[发明专利]生产高折射率光学涂层的气相沉积材料和该气相沉积材料的生产方法有效
申请号: | 01144070.8 | 申请日: | 2001-12-28 |
公开(公告)号: | CN1365956A | 公开(公告)日: | 2002-08-28 |
发明(设计)人: | U·安瑟斯;M·福里兹 | 申请(专利权)人: | 默克专利股份有限公司 |
主分类号: | C04B35/50 | 分类号: | C04B35/50;C01F17/00;C01G23/00;C23C14/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 龙传红 |
地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种在减压下生产氧化钛、钛和氧化镧的高折射率光学涂层的气相沉积材料,由一种烧结混合物组成,其组成为TiOx+z×La2O3,这里x=1.5-1.8,z=10-65重量%,以混合物的总重量为基准。该混合物的组成为19-65重量%范围内的氧化镧,38-74重量%范围内的氧化钛和2-7重量%范围内的钛。 | ||
搜索关键词: | 生产 折射率 光学 涂层 沉积 材料 方法 | ||
【主权项】:
1.在减压下生产氧化钛、钛和氧化镧的高折射率光学涂层的气相沉积材料,特征在于所述材料是一种烧结混合物,组成为TiOx+z×La2O3,这里x=1.5-1.8,z=10-65重量%,以混合物的总重量为基准。
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