[实用新型]稳态大视场偏振干涉成像光谱仪无效
申请号: | 01213108.3 | 申请日: | 2001-03-15 |
公开(公告)号: | CN2475013Y | 公开(公告)日: | 2002-01-30 |
发明(设计)人: | 张淳民 | 申请(专利权)人: | 张淳民 |
主分类号: | G01J3/45 | 分类号: | G01J3/45 |
代理公司: | 陕西省发明专利服务中心 | 代理人: | 李中群 |
地址: | 710048 陕西省西安*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 一种可用于同时获取目标形影图像和干涉光谱的稳态大视场偏振干涉成像光谱仪,由同轴设置的前置光学透镜组、视场补偿型偏振干涉仪、收集光学透镜和面阵探测器组成,偏振干涉仪包括起偏器、视场补偿型萨瓦偏光镜和检偏器,萨瓦偏光镜由两块并排放置的负晶或正晶萨瓦板和一块夹设在两萨瓦板间且制作材料型号与萨瓦板材料型号相异的半波补偿板构成,两萨瓦板光轴分别与系统光轴成45°和135°角。产品具有稳态、大视场及高通量等优点。 | ||
搜索关键词: | 稳态 视场 偏振 干涉 成像 光谱仪 | ||
【主权项】:
1、一种稳态大视场偏振干涉成像光谱仪,其特征在于它由沿入射光向同轴依次设置的前置光学透镜组(1)、视场补偿型偏振干涉仪(2)、收集光学透镜(3)和面阵探测器(4)组成,其中:偏振干涉仪(2)包括沿系统光轴同轴依次设置的起偏器(21)、视场补偿型萨瓦偏光镜和检偏器(25),所说的萨瓦偏光镜由两块并排放置的负晶萨瓦板(22、24)和一块夹设在两负晶萨瓦板(22、24)之间的正晶半波补偿板(23)构成,两萨瓦板(22、24)的光轴在同一平面内且分别与系统光轴成45°和135°角;面阵探测器(4)的信号输出端通过联接线与计算机信号处理系统(5)的信号获取输入端联接。
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