[实用新型]液相沉积生产装置

摘要

本实用新型系有关于一种液相沉积(LPD)生产装置,其主要构造包括一组饱和反应设备、一组稳流过饱和循环反应设备、一组溶液化学浓度自动监控设备,及一组废液回收处理设备。其中饱和反应设备包含一只混合槽、两只以上的原物料供给装置、搅拌器、过滤装置。稳流过饱和循环反应设备含一只过饱和反应槽、一只液位控制槽、两只以上的反应剂供给装置、搅拌器、过滤循环装置。废液回收处理设备包含两只以上的废液储存槽。其中并搭配相关管路阀体控制组件。由于本实用新型采用单槽密闭、双出入口暨两侧溢流式稳流循环设备进行低温液相沉积,可使饱和反应液过滤、循环、加热使用,达到良好的沉积薄膜可靠度。

主权项

1.一种液相沉积生产装置，其特征在于包括：一组饱和反应设备，该饱和反应设备包含一只混合槽、两只以上的原物料供给装置；一组稳流过饱和循环反应设备，该稳流过饱和循环反应设备包含一只过饱和反应槽、至少一只液位控制槽、两只以上的反应剂供给装置，并以相关管路阀体控制组件与所述的饱和反应设备相连通。