[发明专利]PFC处理方法及其处理装置无效

专利信息
申请号: 01800494.6 申请日: 2001-03-07
公开(公告)号: CN1364097A 公开(公告)日: 2002-08-14
发明(设计)人: 南百濑勇 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B01D53/70 分类号: B01D53/70;H01L21/205
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰,梁永
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及不损伤真空泵,整备、检查容易而且不需要燃烧处理的PFC的处理方法以及处理装置。在真空室12的后段介有配管14,连续设置真空泵16和反应器导入部17和等离子体处理部18和聚合物回收部20,构成处理装置10。
搜索关键词: pfc 处理 方法 及其 装置
【主权项】:
1.一种PFC的处理方法,该方法是一种在半导体装置等制造工序中使用的PFC的处理方法,其特征在于,将在减压下使用的所述PFC通过真空泵转移至大气压下,之后在该PFC中添加反应材料,对所述PFC和所述反应材料构成的混合气体进行等离子体处理,利用所述PFC和所述反应材料生成聚合物。
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