[发明专利]含有氧和硫脂环族单元的聚合物和包含该聚合物的光刻胶组合物无效
| 申请号： | 01801511.5 | 申请日： | 2001-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1380993A | 公开（公告）日： | 2002-11-20 |
| 发明（设计）人： | G·G·巴克雷;W·约 | 申请（专利权）人： | 希普雷公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明包括含有杂环,优选含氧或含硫的环的聚合物。该杂环优选被稠合到聚合物骨架上。本发明还提供含有这些聚合物的光刻胶,特别用于在短波长如亚－200纳米下成像。 | ||
| 搜索关键词： | 有氧 硫脂环族 单元 聚合物 包含 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.光刻胶组合物，它包括光活性组分和聚合物，该聚合物包括：i)稠合到聚合物骨架上和含有一个或多个氧或硫环节点的杂脂环族基团；ii)稠合到聚合物骨架上的碳脂环基；和iii)光酸不稳定部分。
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