[发明专利]照相乳剂面保护层转印膜及具有该保护层的光掩模有效
| 申请号： | 01801565.4 | 申请日： | 2001-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN1380992A | 公开（公告）日： | 2002-11-20 |
| 发明（设计）人： | 高田俊彦;佐久间真;永岛和夫;大村知伸 | 申请（专利权）人： | 日本制纸株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;B44C1/165 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种照相乳剂面保护层的转印膜,其特征在于,该转印膜在具有剥离性的支持体的任一表面上设计有具有粘合性的未固化的照相乳剂面保护层,该未固化的照相乳剂面保护层含有具有亲水性基团的单官能(甲基)丙烯酸酯以及多官能(甲基)丙烯酸酯所的电离辐射固化型树脂组合物。上述转印膜的粘合层,不仅耐损伤性优异,与乳剂面的紧密粘合性优异,而且耐溶剂性优异,因此特别是当将其用作光掩模乳剂面的保护层时,能够制备具有长时间使用稳定性的光掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 照相 乳剂 保护层 转印膜 具有 光掩模 | ||
【主权项】：
1.一种照相乳剂面保护层的转印膜，其特征在于，转印膜在具有剥离性的支持体的任一表面上设计有具有粘合性的未固化照相乳剂面保护层，该未固化的照相乳剂面保护层含有由含有亲水性基团的单官能(甲基)丙烯酸酯以及多官能(甲基)丙烯酸酯构成的电离辐射固化型树脂组合物。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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