[发明专利]形成电极或像素电极的方法和一种液晶显示设备无效

专利信息
申请号: 01804122.1 申请日: 2001-09-26
公开(公告)号: CN1397027A 公开(公告)日: 2003-02-12
发明(设计)人: H·塔纳卡;Y·哈塔 申请(专利权)人: 皇家菲利浦电子有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1362;G02F1/1335
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳,傅康
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 依照本发明,使用光掩模(20)将平面化膜(9)曝光,然后进行显影,以给平面化膜(9)提供凹槽(9b)。最后,在包含那些凹槽(9b)的平面化膜(9)上形成像素电极(10)。
搜索关键词: 形成 电极 像素 方法 一种 液晶显示 设备
【主权项】:
1.一种形成电极的方法,包括:第一步,形成具有光敏性的光敏膜;第二步,将所述光敏膜曝光以使不同量的曝光能量能应用到所述光敏膜上的一特定的区域和另一区域;第三步,显影所述已曝光的光敏膜;和第四步,在所述已显影的光敏膜上形成电极。
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