[发明专利]采用可移动工作台和法拉第杯的均匀带电粒子曝光装置和方法无效
| 申请号： | 01810261.1 | 申请日： | 2001-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN1439166A | 公开（公告）日： | 2003-08-27 |
| 发明（设计）人： | 唐纳德·W·贝里亚 | 申请（专利权）人： | 普罗泰罗斯公司 |
| 主分类号： | H01J37/147 | 分类号： | H01J37/147 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王敬波 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种利用离子束均匀注入晶片的方法。晶片(20)一般为具有为圆盘形状并由直径和中心的表面区域的类型。离子束(14)首先形成为入射到晶片上的细长形状，该形状具有沿着第一轴并小于直径的长度和短于长度并沿着第二轴的宽度。接着，晶片以可变移动速度在基本上平行于第二轴的方向移动。晶片还基本上关于中心(22)以旋转速度旋转。优选晶片移动，以便从晶片一侧、穿过晶片表面区域并通过晶片另一侧，以选择速度与位置曲线注入离子束。晶片在旋转的同时还倾斜，以使离子束以相对于晶片的晶体轴基本上恒定的角度注入表面区域。晶片还可以在基本上平行于离子束的方向移动，以使离子束以基本上恒定束点尺寸注入表面区域。本发明的方法还包括确定离子束的束流密度，和作为束流密度的函数调整可变移动速度和旋转速度。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 移动 工作台 法拉第 均匀 带电 粒子 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种利用离子束均匀注入晶片的方法，这种类型的晶片具有圆盘形状并具有直径和中心的表面区域，该方法包括以下步骤：形成入射到晶片上的细长形状的离子束，该形状具有沿着第一轴并小于直径的长度和沿着第二轴并小于长度的宽度；以可变速度在基本上平行于第二轴的方向移动晶片；和以旋转速度基本上关于中心旋转晶片，以便离子束基本上以均匀剂量穿过晶片表面区域注入晶片。
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