[发明专利]用于室温下低压微刻痕和毫微刻痕光刻的模板有效
| 申请号： | 01820435.X | 申请日： | 2001-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN1531668A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 崔炳镇;S·V·斯里尼瓦桑;T·贝利;M·科尔伯恩;C·G·威尔森;J·埃克尔特 | 申请（专利权）人： | 德克萨斯州大学系统董事会 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/00;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开刻痕光刻的模板、形成和使用该模板的方法，以及模板夹持器装置。一刻痕光刻模板可包括带有在本体表面上的多个下凹的本体。本体可以是对触发光基本透明的材料。多个下凹的至少一部分可形成具有特征尺寸约小于250nm的容貌。一模板可这样形成：获得基本上对于触发光透明的材料和在模板的表面上形成多个下凹。在某些实施例中，一模板还可包括至少一个对齐标志。在某些实施例中，一模板还可包括一间隙检测区域。一刻痕光刻模板可用来在衬底上的光致固化液体内形成一刻痕层。在使用过程中，模板可放置在一模板夹持器内。该模板夹持器可包括一带有构造成接纳模板的开口的本体、一支承板，以及连接到本体上的至少一个压电致动器。在使用中，压电致动器可构造成改变模板的物理尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 室温 低压 刻痕 光刻 模板 | ||
【主权项】：
1.一种刻痕光刻模板包括：一包括有第一表面的本体；在第一表面上的多个下凹，其中，下凹的至少一部分具有一约小于250nm的特征尺寸；以及本体上的至少一个对齐标记；其中，模板对于触发光基本上为透明的。
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