[发明专利]微结构的制造方法有效
| 申请号： | 01821809.1 | 申请日： | 2001-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1527960A | 公开（公告）日： | 2004-09-08 |
| 发明（设计）人： | 马克思·史密特 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;G11B5/127;H01L21/033 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种具有高纵横比的金属微结构的制造方法，其中包括在基底上用光刻法产生沟槽。在上述沟槽的内表面形成聚合物链。这样，光刻工艺中的关键尺寸可被降至零以上的任何尺寸。此方法的应用十分广泛，可用于包括由光刻法来确定关键尺寸的任何工艺。它可直接应用于缩小薄膜磁头的读写尺寸，但该发明可被用于制造具有高纵横比的微结构的任何工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 微结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.微结构(32、44、58)的制造方法，包括在光致抗蚀剂上光刻产生沟槽的步骤，该方法包括在所述沟槽(34)的内表面上采用聚合物移接技术形成聚合物刷(28)的步骤。
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