[发明专利]用于离子注入的混合扫描系统及方法无效
| 申请号： | 01822153.X | 申请日： | 2001-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN1500284A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | 唐纳德·W·伯里安;约翰·D·波洛克;约翰·W·范德波特 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备联合公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 离子注入系统在离子注入室中包含边垂直扫描边使晶片在离子束中以某个相对于投射轴线偏离垂直取向旋转的旋转角倾斜的工件夹具。在用工件夹具夹持的晶片上进入注入表面的注入角是通过工件夹具围绕着其运动路径有选择地旋转进行调节的。法拉第杯沿着注入表面的预定位置扫描离子束，以形成装置测量平面。离子束质量是为了提高射束均匀性依照这些倾斜角的测量结果沿着装置平面进行调整的。诸如读数电子枪之类电荷中和装置是与工件成一操作直线运动的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 注入 混合 扫描 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于离子注入的装置，其中包括：有第一轴线的离子源；为了沿着垂直于第一轴线的运动路径以直线运动方式机械扫描而配置的工件夹具；当工件被安装在工件夹具上的时候供使用运动路径作为使工件上的注入表面以选定的旋转角取向的旋转轴线旋转工件时使用的可有选择地调节的旋转控制结构；以及为了沿着注入表面的预定位置扫描以提供与预定位置一致的装置测量结果而配置的射束测定装置。
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