[发明专利]喷嘴装置及具备该喷嘴装置的基板处理装置无效
| 申请号： | 01823874.2 | 申请日： | 2001-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN1582202A | 公开（公告）日： | 2005-02-16 |
| 发明（设计）人： | 赤坂丈士;水川茂;村田贵;中田胜利;松元俊二 | 申请（专利权）人： | 住友精密工业株式会社 |
| 主分类号： | B05B1/14 | 分类号： | B05B1/14;B05C5/00;B05C11/08;H01L21/304;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 沙捷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及能以少量的处理液、而且在基板上形成均匀膜厚的处理液膜的喷嘴装置及具备该喷嘴装置的基板处理装置。喷嘴装置(10)，具备：多个喷出口(18)，形成于下面；储液室(22)，使所供给的处理液滞留；以及，液喷出流路(23、17)，一方连通于各喷出口(18)，另一方连通于储液室(22)，使滞留于储液室(22)的处理液流通至喷出口(18)，从喷出口(18)喷出。喷出口(18)，沿喷嘴装置(10)的长边方向排列成多列，并且各列的喷出口(18)配置于邻接的喷出口(18)列的各喷出口配置间，使各喷出口(18)沿排列方向配设成交错状。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 装置 具备 处理 | ||
【主权项】：
1.一种喷嘴装置，具备长形的喷嘴体，从该喷嘴体喷出处理液而涂布于被处理物上，其特征在于：所述喷嘴体，具备：多个喷出口，形成于其下面；储液室，使所供给的处理液滞留；以及，液喷出流路，一方连通于所述各喷出口，另一方连通于所述储液室，使滞留于所述储液室的处理液流通至所述喷出口，从所述喷出口喷出；所述喷出口，沿所述喷嘴体的长边方向排列成多列，并且各列的喷出口配置于邻接的喷出口列的各喷出口配置间，使各喷出口沿排列方向配设成交错状。
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