[发明专利]沉积装置和沉积方法有效
| 申请号： | 02103325.0 | 申请日： | 2002-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN1369573A | 公开（公告）日： | 2002-09-18 |
| 发明（设计）人： | 山崎舜平;濑尾哲史;水上真由美 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | C23C14/12 | 分类号： | C23C14/12;C23C14/24;H01L51/40;H01L33/00;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明,张志醒 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供用于制造具有多个功能区的有机化合物层的一种沉积装置。该沉积装置包括沉积室内的多个蒸发源,能连续形成包括有机化合物的相应的功能区,并且,进一步在功能区的相邻区之间的界面形成混合区。用具有这种制造室的沉积装置,可以防止功能区之间的杂质污染,并且进一步可以在界面形成缩短能隙的有机化合物层。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种沉积装置，该装置包括：多个沉积室；和在所述沉积室中的多个蒸发源；其中多个蒸发源中的每一个包括至少一种有不同功能的有机化合物，和其中具有不同功能的有机化合物是通过从所述多个蒸发源的真空蒸发而连续沉积的。
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