[发明专利]规格确定方法、投射光学系统制造方法和调节方法、曝光设备及其制造方法以及计算机系统有效
| 申请号： | 02104628.X | 申请日： | 2002-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN1371027A | 公开（公告）日： | 2002-09-25 |
| 发明（设计）人： | 滨谷正人;塚越敏雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F15/16 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 武玉琴,朱登河 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一个计算机系统包括一个第一计算机和一个第二计算机;一个光学设备需要实现的目标信息输入到该第一计算机中;该第二计算机根据借助于通讯线路从第一计算机接收来的目标信息并使用投射光学系统需要满足的波前像差量作为标准来确定一个投射光学系统的规格。因此,在制造投射光学系统的过程中,通过根据测量波前像差的结果来调节投射光学系统,像差的高阶分量可以在对低阶分量进行修正的同时进行修正以满足该规格;因此,该制造方法变得简单。而且,所述的投射光学系统能够保证实现所述的曝光设备所需实现的目标。 | ||
| 搜索关键词： | 规格 确定 方法 投射 光学系统 制造 调节 曝光 设备 及其 以及 计算机系统 | ||
【主权项】：
1.一种规格确定方法，利用该方法可以确定在一个光学设备内使用的投射光学系统的规格；所述的规格确定方法包括：获取所述的光学设备所需实现的目标信息；以及根据所述的目标信息，利用将所述的投射光学系统所需满足的波前像差量和对应于波前像差的数值中的一个作为标准来确定所述的投射光学系统的规格。
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