[发明专利]一种用于铜制程的化学机械研磨液组合物无效
申请号: | 02105024.4 | 申请日: | 2002-02-10 |
公开(公告)号: | CN1438290A | 公开(公告)日: | 2003-08-27 |
发明(设计)人: | 陈丽梅;闵俊国;王朝仁;蔡庆龙 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨淑媛,黄韧敏 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于铜制程的化学机械研磨液组合物,其包括:一酸性铜研磨液,它包括第一水性介质、第一研磨粒子、第一氧化剂、第一酸类及第一有机添加剂;及一酸性钽研磨液,它包括第二水性介质、第二研磨粒子、第二酸类及第二有机添加剂。其中:相对于上述铜研磨液全部重量而言,上述第一研磨粒子、第一氧化剂、第一酸类及第一有机添加剂的含量分别为1-30wt%;1-10wt%;0.001-5wt%;0.001-1wt%;相对于上述钽研磨液全部重量而言,上述第二研磨粒子、第二酸类及第二有机添加剂的含量分别为5-30wt%;0.001-2wt%;0.001-0.3wt%。当使用上述本发明的化学机械研磨液组合物以两阶段方式进行化学机械研磨时,可得到高研磨效率、低刮痕、低喋陷及磨蚀的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 铜制 化学 机械 研磨 组合 | ||
【主权项】:
1.一种用于铜制程的化学机械研磨液组合物,其包括:一铜研磨液,该铜研磨液为酸性,包括:第一水性介质、第一研磨粒子、第一氧化剂、第一酸类及第一有机添加剂;以及一钽研磨液,该钽研磨液为酸性,包括:第二水性介质、第二研磨粒子、第二酸类及第二有机添加剂;其中:相对于上述铜研磨液全部重量而言,上述第一研磨粒子、第一氧化剂、第一酸类及第一有机添加剂的含量分别为1-30wt%;1-10wt%;0.001-5wt%:0.001-1wt%,余量为第一水性介质;相对于上述钽研磨液全部重量而言,上述第二研磨粒子、第二酸类及第二有机添加剂的含量分别为5-30wt%;0.001-2wt%;0.001-0.3wt%,余量为第二水性介质。
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